目前,我国生产系稀土抛光粉的原料有下列几种:(1)氧化(ceo2),稀土抛光粉生产工艺,由混合稀土盐类经分离后所得(w(ceo2)=99%);(2)混合稀土氢氧化物(re(oh)3),为稀土精矿(w(reo)***50%)化学处理后的中间原料(w(reo)=65%,w(ceo2)***48%);(3)混合氯化稀土(recl3),从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土(主要含la,ce,pr和nd,w(reo)***45%,w(ceo2)***50%);(4)高品位稀土精矿(w(reo)***60%,w(ceo2)***48%),有内蒙古包头混合型稀土精矿,山东微山和四川冕宁的氟碳矿精矿。
(氧化铁)是历早使用的抛光材料,但它的抛---度慢,稀土抛光粉作用,而且铁锈色的污染也无法消除。随着稀土工业的发展,于二十世纪30年代,首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次中,一个在伊利诺斯州罗克福德的wf和barnesj公司工作的雇员,于1943年提出了一种叫做巴林士粉(barnesite)的稀土氧化物抛光粉,揭阳稀土抛光粉,这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光、---、污染小等优点,激起了美国等的群起研究。这样,稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。
原料***干法细磨***配料***混粉***焙烧***磨细筛分***低级系稀土抛光粉产品。主要设备:球磨机,混料机,焙烧炉,筛分机等。主要指标:产品中w(reo)***95%,w(ceo2)***50%;稀土回收率***95%;产品粒度为1.5μm~2.5μm.该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。目前,国内生产的低级系稀土抛光粉的量,约占总产量的90%以上。
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