中系稀土抛光粉,主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。该抛光粉与高粉比较,可使抛光粉的液体浓度降低11%,抛---率提高35%,制品的光洁度可提高一级,抛光粉的使用寿命可提高30%.目前国内使用这种抛光粉的用量尚少,有待于今后继续开发新用途。
低系稀土抛光粉,如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光;797型和c-1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光;h-500型和877型适用于电视机显象管的抛光。此外,稀土抛光粉厂家,其它抛光粉用于对光学仪器,---机和照像机镜头等的抛光,这类抛光粉国内用量,约占国内总用量85%以上。
目前,我国生产系稀土抛光粉的原料有下列几种:(1)氧化(ceo2),由混合稀土盐类经分离后所得(w(ceo2)=99%);(2)混合稀土氢氧化物(re(oh)3),为稀土精矿(w(reo)***50%)化学处理后的中间原料(w(reo)=65%,w(ceo2)***48%);(3)混合氯化稀土(recl3),从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土(主要含la,ce,pr和nd,w(reo)***45%,广州稀土抛光粉,w(ceo2)***50%);(4)高品位稀土精矿(w(reo)***60%,w(ceo2)***48%),稀土抛光粉的价格,有内蒙古包头混合型稀土精矿,山东微山和四川冕宁的氟碳矿精矿。
以上原料中除种外,第2,3,4种均含轻稀土(w(reo)≈98%),且以ceo2为主,稀土抛光粉作用,w(ceo2)为48%~50%.我国具有丰富的资源,据---,其工业储量约为1800万吨(以ceo2计),这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础,也是我国---的一大优势,并可促进我国稀土工业继续高速发展。
1.4主要生产工艺及设备
1.4.1高系稀土抛光粉的生产
以稀土混合物分离后的氧化为原料,以物理化学方法加工成硬度大,粒度均匀、细小,呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为:原料***高温***煅烧***水淬***水力分级***过滤***烘干***系稀土抛光粉产品。
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