因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的抛光粉(包括稀土抛光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉,由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视,产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世,随着现代科学技术的发展,其应用前景不可预测,但目前其市场份额还很小,属于研发阶段。
中系稀土抛光粉,主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。该抛光粉与高粉比较,可使抛光粉的液体浓度降低11%,抛---率提高35%,稀土抛光粉成分,制品的光洁度可提高一级,抛光粉的使用寿命可提高30%.目前国内使用这种抛光粉的用量尚少,有待于今后继续开发新用途。
低系稀土抛光粉,如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光;797型和c-1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光;h-500型和877型适用于电视机显象管的抛光。此外,稀土抛光粉,其它抛光粉用于对光学仪器,---机和照像机镜头等的抛光,这类抛光粉国内用量,约占国内总用量85%以上。
稀土抛光粉的粒度及粒度分布对抛光粉性能有重要影响。
对于一定组分和加工工艺的抛光粉,平均颗粒尺寸越大,则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多数情况下,颗粒尺寸约为4μm的抛光粉磨削速度。相反地,如果抛光粉颗粒平均粒度较小,则磨削量减少,磨削速度降低,玻璃表面平整度提高,标准抛光粉一般有较窄的粒度分布,太细和太粗的颗粒很少,无大颗粒的抛光粉能抛光出高的表面,而细颗粒少的抛光粉能提高磨削速度。
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